光刻技術(shù)的發(fā)展是摩爾定律繼續(xù)成立的原動(dòng)力。更短的波長(zhǎng)，更好的晶狀體，直接促進(jìn)了45納米商用芯片的發(fā)布，而且32mn制程也在測(cè)試中，你或許會(huì)對(duì)此感到驚訝，但是毫無疑問，它不會(huì)停留在此水平，而是會(huì)繼續(xù)向前發(fā)展。昨天科學(xué)家發(fā)布了新的無掩膜平板印刷技術(shù)，這可能是制造小于32nm制程芯片的關(guān)鍵。
傳統(tǒng)的光刻技術(shù)采用負(fù)極掩模成像蝕刻在芯片上，但是這種技術(shù)成本高，而且研發(fā)時(shí)間長(zhǎng)，對(duì)精度要求很高。你可想像這是需要很高的研發(fā)成本的，也可能是拖慢電路發(fā)展的一個(gè)因素。
新的無掩膜平板印刷技術(shù)可以繞過以上的難題，他采用光束和電子的作用產(chǎn)生的等離子體激元來完成的。光促使電子擺動(dòng)，然后形成很多大的電場(chǎng)和光場(chǎng)，并在晶體上面產(chǎn)生一系列金屬環(huán)，進(jìn)而形成可以聚焦的光點(diǎn)進(jìn)行蝕刻。
理論 上使用該技術(shù)可以制造出5-10nm的芯片，但是實(shí)際上只能形成20納米的等離子光束，看來還是有很長(zhǎng)的一段路要走。
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