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極性火焰處理技術(shù)的優(yōu)勢(shì)與特點(diǎn)

2007/8/10 15:04:24 人評(píng)論

    (1)化學(xué)處理法:是用強(qiáng)氧化化學(xué)品涂敷于薄膜基材表面,使其表面生成羥基、羰基等極性集團(tuán),同時(shí)得到一定程度的粗化,以提高油墨與塑料薄膜的表面結(jié)合牢度。但需較長(zhǎng)的處理時(shí)間,影響了生產(chǎn)效率,并且處理液一般都具有化學(xué)侵蝕性,造成環(huán)境污染及對(duì)人體的危害。   (2)涂敷處理法:是在薄膜上涂以特定的涂料,以改變其表面吸附性能。但薄膜涂敷時(shí)需要經(jīng)過冗長(zhǎng)的預(yù)處理、涂敷、干燥程序,效率低,并改變了薄膜結(jié)構(gòu)。   (3)紫外線處理:是用特別設(shè)計(jì)的紫外線燈照射處理,利用紫外線照射高聚物表面,使其引起化學(xué)變化,達(dá)到改善表面張力,提高潤(rùn)濕性和粘合性的目的。紫外線照射使高聚物表面發(fā)生裂解、交聯(lián)和氧化,需要較長(zhǎng)的時(shí)間處理,效率太低   (4)等離子處理:是在密閉的腔內(nèi),使用高頻產(chǎn)生器,使空氣或氣體離子化,利用等離子體所具有的高能量和高反應(yīng)活性的自由基、離子、紫外線等,引發(fā)塑料表面分子發(fā)生氧化、降解、聚合等反應(yīng),從而引入極性基團(tuán)來增強(qiáng)涂膜對(duì)塑料表面附著力。該辦法具有處理時(shí)間短、效果好等突出特點(diǎn),但設(shè)備投資較大,且難以滿足大宗工業(yè)產(chǎn)品的表面改性需要。   (5)電暈處理:實(shí)際上電暈處理也是一種低溫等離子體處理。利用高頻(大約30KHz)高壓(大約20KV)電源,在放電刀架和刀片的間隙產(chǎn)生電暈放電而形成低溫等離子體區(qū)。其處理作用為:a.通過放電,使兩極之間的空氣電離,在薄膜的表面形成低溫等離子區(qū)使薄膜的表面達(dá)到改性。另外,空氣中的氧氣在高頻電場(chǎng)中電離,產(chǎn)生臭氧。臭氧是一種強(qiáng)氧化劑,可以立即氧化塑料薄膜的表面分子,使其由非極性轉(zhuǎn)化為極性,表面張力得到提高.電子沖擊后,使薄膜表面產(chǎn)生微凹密集孔穴,使塑料表面粗化,增大表面活性。由于其具有較高的生產(chǎn)效率,是目前最為流行的表面處理方法。   極性火焰處理技術(shù)的優(yōu)勢(shì)與特點(diǎn)   極性火焰處理是改變不少非吸收性基材表面特性的一種有效手段,能使油墨、油漆、膠水、涂料等有更好的濕潤(rùn)及附著性能。與電暈處理相比,處理品質(zhì)高,處理深度淺,基材表面雜質(zhì)凈化,高處理水平,表面張力大,衰減小,環(huán)保,無臭氧、氣味產(chǎn)生,可使用水性油墨。與目前在塑料薄膜工業(yè)上應(yīng)用最廣的電暈處理法相比具有以下特點(diǎn):   (1)處理水平高,對(duì)聚烯烴類薄膜標(biāo)準(zhǔn)處理值為50mN/m—55mN/m,聚酯薄膜超過60mN/m,最高處理水平可高達(dá)72mN/m;   (2)超長(zhǎng)的粘結(jié)力穩(wěn)定性,最初處理水平只有很小的衰減;   (3)較佳的處理品質(zhì),處理深度淺(僅為30埃,電暈處理為300埃),并能凈化基材表面雜質(zhì),薄膜表面不會(huì)出現(xiàn)像電暈處理后出現(xiàn)的粘物;   (4)處理較薄的膜時(shí)不會(huì)出現(xiàn)針孑L;   (5)減少或不用底涂層;   (6)共擠膜有更好的熱封性能;   (7)提高復(fù)合強(qiáng)度,超過電暈處理100g/m;   (8)提高阻隔性能;   (9)無臭氧、無氣味、無燃燒殘留,不會(huì)造成環(huán)境影響;   (10)被處理材料光學(xué)性能和物理性能不會(huì)發(fā)生變化;   (11)不會(huì)造成背面處理;   (12)不會(huì)有卷曲現(xiàn)象;   (13)低啟動(dòng)成本,維護(hù)費(fèi)用低,更安全;   (14)水性或溶劑型油墨均可使用(注:使用溶劑型油墨表面張力 至少38mN/m,使用水性油墨表面張力至少42mN/m);   (15)生產(chǎn)速度可達(dá)到很高,在BOPP線上可達(dá)到550m/min,在獨(dú) 立處理的線上可達(dá)到1000m/min;   (16)可用于BOPP、PE、PET、CPP薄膜生產(chǎn)線;   (17)新設(shè)計(jì)理論處理寬度可達(dá)11m。作者/單衛(wèi)忠 呂軍鋒

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