摘要 簡述了印制電路板生產(chǎn)用的專用印料:抗蝕刻印料,抗電鍍印料,阻焊印料,字符、標(biāo)記印料,塞孔印料,導(dǎo)電印料,可剝性印料,焊膏印料等各類印料的技術(shù)規(guī)范、工藝參數(shù)和生產(chǎn)操作技術(shù)?! £P(guān)鍵詞 電路板 絲網(wǎng)印刷 印料 印制電路板生產(chǎn)離不開絲網(wǎng)印刷和印料,印料亦稱油墨,在印制電路制造工藝中被廣泛使用。如今,電子產(chǎn)品朝高精度、高密度、高可靠性、微細(xì)技術(shù)方向發(fā)展,對(duì)印制電路制造技術(shù)中包括的絲網(wǎng)印刷提出更高的要求。隨著近幾年來網(wǎng)印材料的飛速發(fā)展和進(jìn)步,研制和開發(fā)出許多新型的印料,并不斷加以改進(jìn),滿足了精飾印制電路板的生產(chǎn)工藝要求。 目前,印制板制造業(yè)已經(jīng)形成一系列專用的印料,其種類大致分類如下: (1)抗蝕刻印料; (2)抗電鍍印料; (3)阻焊印料; (4)字符、標(biāo)記印料; (5)塞孔印料; (6)導(dǎo)電印料; (7)可剝性印料; (8)焊膏印料。一、抗蝕刻印料 抗蝕刻印料是印制板生產(chǎn)中最早開發(fā)和使用的最為普遍的印料之一,在減成法工藝中使用。它的作用是網(wǎng)印在銅箔上,保護(hù)線路圖形不被蝕刻液蝕刻掉。目前已形成眾多的品牌,但歸納起來分為二大類:(1)自干型或熱固型;(2)光固型?! ?1)自干型或熱固型 自干型或熱固型抗蝕印料是由合成樹脂、填料、顏料、助劑和溶劑組成的一液型印料?! ∽愿尚陀×显诔叵乱恍r(shí)或者更短的時(shí)間干燥成膜;熱固型印料則要求在熱風(fēng)循環(huán)烘箱內(nèi)80~100℃、8~10 min(分鐘)干燥,干燥后的膜層硬度可達(dá)2H。有的品種只耐酸性蝕刻液,而有的品種既耐酸性又抗堿性蝕刻液。去膜通常用1%~3%的NaOH溶液去除,印料的貯存期限為一年,顏料多為藍(lán)色或黑色?! ?2)光固型 光固型抗蝕印料一般由感光樹脂、感光性單體、感光劑、填料、助劑和顏料組成。它的主要特點(diǎn)是在絲網(wǎng)印刷時(shí)在網(wǎng)版上不會(huì)干燥,也不會(huì)堵網(wǎng),但在紫外線(UV光)的照射下,在短短的幾秒鐘內(nèi)產(chǎn)生光交聯(lián)聚合反應(yīng),快速固化,膜層硬度也達(dá)2H,同樣能抗酸性和堿性蝕刻液;同時(shí)由于不含溶劑,故不會(huì)污染環(huán)境,適合單面印制板的自動(dòng)化流水線生產(chǎn)。印料的儲(chǔ)存期約為4~6個(gè)月?! ∮×贤ǔ5墓袒瘲l件為:高壓水銀燈80 W/cm×3,照射距離10 cm,光固機(jī)的輸送速度為4~6 m /min,去膜用3%~5% NaOH溶液,溫度30~50℃?! 峁绦秃凸夤绦陀×系姆直媛始s為200μm左右,制作線寬和間距在0.25 mm以上的圖形。二、抗電鍍印料 抗電鍍印料和抗蝕刻印料一樣,也是一液型稀堿溶解的印料。主要用于雙面或多層印制板外層線路圖形的制作,它的功能是網(wǎng)印負(fù)性線路圖形,在圖形電鍍時(shí)阻止金屬離子在其上面形成電鍍層,抗電鍍印料也可作為抗蝕刻印料使用?! 】闺婂冇×现饕譃闊峁绦秃鸵簯B(tài)感光型二大類?! ?1)熱固型 熱固型印料由合成樹脂、填料、助劑、顏料和溶劑組成。膜層的干燥溫度為80~100℃,時(shí)間8~10 min,干燥后的膜層鉛筆硬度約為2H,能耐電鍍銅、錫鉛合金、鎳、金鍍液并耐酸性或堿性蝕刻液,適宜線寬和間距為0.25 mm以上的印制板生產(chǎn)?! 】闺婂冇×系挠∷⒁蟾稍锖蟮哪雍穸冗_(dá)到一定的要求,如果膜層過薄在圖形電鍍時(shí)線路圖形會(huì)向兩側(cè)延伸,產(chǎn)生電鍍溢懸,即所謂的“蘑菇”現(xiàn)象,嚴(yán)重的還會(huì)造成短路,在退除印料時(shí)造成去墨困難或去墨不干凈,蝕刻時(shí)殘留膜層造成圖形導(dǎo)線鋸齒或蝕刻不潔?! 」夤绦陀×系氖褂貌缓芷占埃m然光固型印料有網(wǎng)印性能好、涂層較厚的優(yōu)點(diǎn),但因固化程度較難掌握以及去墨不方便則影響到它的推廣使用?! 【W(wǎng)印技術(shù)的平均水準(zhǔn)為線寬和間距在0.2 mm左右,采用熱固型印料操作工藝突破這個(gè)水準(zhǔn)是很困難的?! ∪ツ捎?%~5%的NaOH溶液,印料的貯存期限為一年。 (2)液態(tài)感光型 液態(tài)感光型抗電鍍印料是解決精細(xì)導(dǎo)線圖形制作而研制的一種印料,俗稱濕膜。它克服了熱固型抗電鍍印料和干膜生產(chǎn)工藝中的一些難題,適合細(xì)導(dǎo)線和超細(xì)導(dǎo)線的生產(chǎn)。最細(xì)線寬可達(dá)在2.54 mm為中心的兩焊盤之間形成三根導(dǎo)線(0.125 mm)或四根導(dǎo)線(0.075 mm),也可用于高精度的工藝品、STM鏤空模板、移印凹版制作之用?! ∫簯B(tài)感光抗電鍍印料還可用于多層板內(nèi)層精細(xì)導(dǎo)線的制作,作為抗蝕刻印料使用?! ∷筛泄鈽渲?、感光劑、填料、助劑、顏料和溶劑組成。印料的解像度達(dá)50~100 μm,和覆銅箔板的附著力良好,不存在干膜生產(chǎn)中出現(xiàn)界面性氣泡而引發(fā)邊緣滲鍍從而造成的導(dǎo)線毛刺、缺口、短路等疵病?! ∮×贤ǔT诎踩S色光區(qū)域范圍內(nèi)操作,貯存期約為一年?! ∫簯B(tài)感光抗電鍍印料的簡要工藝操作流程如下: 涂布預(yù)烘冷卻曝光顯像固化電鍍去除印料蝕刻 a. 涂布 150~300目絲網(wǎng),手工網(wǎng)印滿版印刷,印刷A、B面,用于雙面板圖形電鍍工藝時(shí),選用較低目數(shù)絲網(wǎng),用于多層板內(nèi)層的蝕刻工藝時(shí),選用高目數(shù)的絲網(wǎng)?! . 預(yù)烘 熱風(fēng)循環(huán)烘箱80~100℃,8~10 min,A、B面雙面同時(shí)烘烤?! 『婵竞笕〕隼鋮s至室溫?! . 曝光 冷卻后曝光時(shí),紫外光波長為300~400 nm,曝光能量控制在100~300 mJ/cm2,斯圖弗21級(jí)光密度計(jì)為7~8級(jí)。 d. 顯像 1% Na2CO3溶液,顯像液溫度28~32℃,噴淋壓力0.2~0.3 MP/cm2,時(shí)間30~60 s(秒)?! . 電鍍 抗電鍍銅、錫鉛合金、鎳、金溶劑?! . 去墨 3%~6% NaOH溶液,在50~60℃溫度下膜層溶脹、膨潤剝離?! . 蝕刻 耐酸性或堿性蝕刻液,但要求蝕刻液溫度不要過高。
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