以重鉻酸鹽為感光劑的膠體 以重鉻酸鹽為感光劑的掩膜,均以蟲膠、骨膠、明膠和聚乙烯醇作為膠體。膠體中加入重鉻酸鹽后成為感光膠(涂在板面形成掩膜),經過涂布、干燥、曝光、顯影制出圖形。紫外線照射時重鉻酸鹽在膠體中發(fā)生化學反應,感光部分形成Cr3+并與膠體中的蛋白質形成不溶于水的部分仍為六價鉻的感光膠體,顯影后被水沖走,廢水中含有六價鉻污染水源和環(huán)境。進入20世紀80年代以后,此工藝逐漸被淘汰。 抗蝕油墨 此掩膜經過長時間不斷改進,其使用性能和抗蝕性能都有很大提高。最初,這種油墨均由使用者自己配制,因材料來源各異和設備不完善,質量不是很穩(wěn)定。后來有了專業(yè)生產廠制造抗蝕油墨,質量才有所改觀。但生產時需大量的溶劑,不僅提高了成本,而且造成了空氣污染。以UV固化或熱固化后用弱堿去膜的油墨使用較方便,但其是通過絲網將圖型漏印在板面上,限制了它的分辨率。當漏印線寬和線宰的尺寸在0.2mm以下時很難操作。也就是說它只能用于圖形中的粗線和一般線條。手工操作時對于操作者的技術要求較高,重復性不好。 干膜抗蝕劑 干膜抗蝕劑俗稱干膜,于20世紀70年代初進入我國,是電路板制造圖形應用最廣泛的掩膜。干膜的應用為我國電路板的圖形轉移工藝開創(chuàng)了新篇章,使電路板工業(yè)發(fā)展速度加快。干膜的制造技術有一定難度,且設備及檢測儀器投資較大,國內只有少數廠家生產,品質也只能滿足一般產品的需要。干膜占電路板制造成本相當大的比重,國內所需干膜大多需進口,且進口的品牌、厚度、規(guī)格等不斷增加。目前電路板的價格一降再降,許多廠家不得不探索其他降低成本的出路。干膜需要專用設備,若不是系統(tǒng)生產或自動化生產,邊料出的多,浪費大。生產時產生的廢料需進行處理,這些都是廠家所要考慮的。因此,需要尋求一種新型感光掩膜材料代替干膜。 轉載自:《中國化工報》
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