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背部曝光    下一步，曝光后的版材從CDI機(jī)器上取下來，然后放在接觸架上進(jìn)行背部曝光，背部曝光時，激光從版材的背部開始對單聚體進(jìn)行逐漸曝光，單聚體見光聚合，進(jìn)而向版材的正面反應(yīng)，曝光的時間決定了最終版材的厚度，這在印刷過程中是一個非常關(guān)鍵的因素，因為版材的厚度將直接影響到圖像網(wǎng)點的擴(kuò)大及網(wǎng)點擴(kuò)大補(bǔ)償。在進(jìn)行UV曝光時，數(shù)字式柔版不需要真空布的接觸架，版材曝光時采用上下雙光源，在背部曝光和主曝光時，版材需要翻面。主曝光    在主曝光期間，UV光可通過合成膜上已被洞穿的開口處通過，對其下層的光敏聚合物進(jìn)行曝光，這是在整個曝光過程中又一次進(jìn)行光聚合反應(yīng)。在聚合反應(yīng)向版材的基部擴(kuò)展時，對于網(wǎng)點大小，線條寬度的控制是致關(guān)重要的，要保證版材在沖冼過程中不至于將小網(wǎng)點的細(xì)線沖洗掉。    與傳統(tǒng)的制版工藝相比，數(shù)字式工藝流程有以下優(yōu)勢：數(shù)字式版材網(wǎng)點清晰且邊界挺撥，曝光時間較長也不會造成網(wǎng)點形狀虛化增長。沖洗    數(shù)字式柔版沖洗過程與傳統(tǒng)的過程一樣，未被灼燒的合成膜與殘存的光敏聚合物將被溶解，黑層只是增大了沖片機(jī)溶劑中碳的含量，當(dāng)在溶劑中的光敏聚合物的含量增加時，沖冼過程將會速度減慢，這時需要對溶劑進(jìn)行蒸餾處理，然后將蒸餾后的殘留物作廢物處理。其他處理以后的處理將包括：●干燥過程，將版材上的溶劑殘余物去除?！窈笃毓猓髣┝縐V曝光進(jìn)行。光敏聚合反應(yīng)或?qū)堄喙饷粑镔|(zhì)硬化，從而降低版材的粘度?！裼∷⑶埃谧罱K完成階段蒸發(fā)溶劑殘余物，從而維持版材的正常尺寸。CDI曝光后，對版材的處理與傳統(tǒng)的柔版處理方式是一致的。由于合成膜，在UV主曝光過程中版材表面沒有覆蓋物的干擾，數(shù)字式柔版在處理過程中對各種各樣的外部處理參數(shù)，例如：準(zhǔn)確的UV曝光量，都沒有傳統(tǒng)的版材敏感，當(dāng)軟片或合成膜被曝光后，接著進(jìn)行主曝光，傳統(tǒng)的柔版有一個有透明稀鉑或真空布的接觸架，真空布成卷打開將覆在軟片或版上，真空裝置打開后，真空布下的空氣完全被吸起以達(dá)到軟片與柔版的良好接觸。因此大多數(shù)運用特殊的磨砂片，否則，吸附性較強(qiáng)的柔版表面可能會在局部吸附片基并產(chǎn)生氣泡。這一點非常清楚，在UV光到達(dá)Cyrel光敏聚合物之前，要經(jīng)過許多層?！駨目諝庵羞M(jìn)入底部磨砂的真空布?！駨恼婵詹嫉杰浧植诘恼婵詹急砻嬖斐啥嘤嗟哪：??！襁M(jìn)入片子的內(nèi)部多層，完全是軟片自身的光學(xué)成像系統(tǒng)?！窠?jīng)過磨砂片到最后進(jìn)入Cyrel光敏聚合物又會造成多余的模糊。    當(dāng)UV激光開始進(jìn)行光敏聚合反應(yīng)時便會有散射。因此我們?nèi)菀桌斫庾罱K的網(wǎng)點表面將會不清晰并且邊緣較軟。     對數(shù)字式版材的主曝光是不同的，合成膜層局部被去除后，UV激光直接進(jìn)行曝光而沒有任何散射或漫反射，因此印刷網(wǎng)點的邊緣更加陡峭，更加清晰。 技術(shù)參數(shù)成像方式外滾筒設(shè)計滾筒尺寸：1083mm×815mm(42.6×32in)大理石機(jī)座60瓦YAG－級激光，1064mm最高滾筒轉(zhuǎn)速：2000rpm圖像質(zhì)量半色調(diào)2－98％在120lpi,48L/cm激光點尺寸：12.7μm或25μm分辨率：1050，1200，1400，1680，2100，2800dpi或4200dpi生產(chǎn)能力全幅面版材曝光(厚度1.14mm):2100dpi時30分鐘－；1400dpi20分鐘。電機(jī)控制：GrapholoasNT(WindowsNT),Cyrel版家族CyrelDPS版CyrelDPH版厚度：0.76mm(0.03in)，1.14mm(0.045in)，1.70mm(0.67in)尺寸：1067mm×762mm(42×30in)外觀尺寸:寬250cm(98in)深115cm(45.1in)高155cm(61in)－頂蓋關(guān)閉189cm（74in）－頂蓋打開重量最大3000千克安裝需求分離真空系統(tǒng)，包括電氣：3×380v,50/60Hz,11kVA(制版機(jī))3×380v,50/60Hz,2kVA(真空泵)3×380v,50/60Hz,4kVA(冷卻裝置)所需壓縮空氣：3巴(44psi),無油無水