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PS版與膠印印版制作  

2007/8/10 15:04:24 人評論

一.PS版(版材)的分類、結構及性能1. PS版材的分類:——陽圖型PS版:用陽圖分色片進行曬版的PS版,其感光膜在紫外線照射下產生光分解反應。——陰圖型PS版:用陰圖分色片進行曬版的PS版, 其感光膜在紫外線照射下產生光聚合反應?! 》譃榘婊?、氧化層、感光膜層2.PS版材的結構:——版基:鋁金屬版基。通常有0.25mm、0.15mm兩   種厚度?!趸瘜樱杭从H水層,是通過陽極氧化和封孔工藝,   在版基一側形成多孔、堅硬的氧化層。有較強的   耐磨、耐蝕、吸水性。——感光膜層:即親油層,由感光劑(氮醌化合物)、成膜性樹脂、染料、溶劑等組成。3.PS版主要性能指標:——表面粗糙度:0.40≤Ra ≤0.90(um)——版基面氧化層質量:1.50 ~3.50(g/m2 )——版基面感光層質量:1.60~2.50 (g/m2 )——分辨率:≤10.0(um)——網點再現(xiàn)范圍:2%~98% 網點齊全——版基底色密度:≤0.03——感光度: ≤300 (mj/cm2 )——留膜率:≥90%——印版厚度:0.15~0.40mm(厚度偏差?0.01mm)——印版尺寸:符合GB/T 17155-1997——耐印力:未定注:影響印版耐印力的主要因素①PS版感光膜附著力②分色片實地密度③印刷壓力④紙張含雜質(砂粒)量⑤潤版液Ph值二.膠印印版制作(曬版)工藝流程分色片輸出→曝光→顯影→修版→后處理→印刷——曝光:是把分色片與PS版藥膜面緊密接觸,用紫外線光源(如碘鎵燈)(光譜范圍約360~430毫微米)進行曝光?!@影:是把(經曝光)產生光分解反應的(非印刷區(qū)域)感光膜,在稀堿溶液中溶解,露出氧化(親水)層?!薨妫喊呀浰春蟮挠“?,用除臟劑(由相關溶劑、增濃劑、染料、潤濕劑等組成)進行修版除臟作業(yè)?!筇幚恚喊ê娓?、烤版、提墨、擦膠等?! た景妫褐饕菫榱颂岣哂“娴哪陀×?。在230℃~250℃溫度下烤版5~8分鐘?! ぬ崮簽樘岣甙婷鎴D文部分的反差(便于檢查)、保護圖文印刷部分的感光膜不受光的損害、增加印版的吸墨性,在版面涂以提墨劑?! げ聊z:為保護制作好的印版,防止氧化和灰塵污染,在版面涂擦護版膠(如阿拉伯樹膠)。三. 對分色片質量的要求——片基灰霧密度≤0.15——實地密度≥3.50——通透性:網點透明部分密度(不包括片基) ≤0.10——網點邊緣寬度≤網線寬度/40(um)——軟片線性化誤差≤±2%——套準誤差(對角線)≤0.02%——版面清潔、無劃痕、折痕等  來源:中文印刷社區(qū)

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