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陽圖型PS版耐印力的原因解析三

2007/8/10 15:04:24 人評論

三、陽極氧化的影響  電解粗化,使版基表面出現(xiàn)砂目,其主要目的是改善了版基的吸附性能,使親水性、親油性得以改善,從而提高印版耐印率;而版基的硬度、化學穩(wěn)定性、耐蝕性并未改變,只有通過陽極氧化,在砂目表面形成牢固附著的氧化膜層(Al2O3層),才能使版基的硬度、致密性提高,印版的耐印力才能有很大提高?! ?.氧化膜的作用  版基上的氧化膜,有很高的硬度和耐磨性,其硬度甚至可與優(yōu)質(zhì)鋼相比。有氧化層的印版,經(jīng)40萬次印刷,也未發(fā)現(xiàn)砂目的明顯損壞,而未經(jīng)陽極氧化處理的印版,只要經(jīng)過1~2萬次印刷,砂目的頂端便被磨損,不能再印了?! ∩裳趸さ挠“婺臀g性很強、在普通潤濕液中浸泡15天,也不會出現(xiàn)腐蝕的痕跡,在通風干燥的室內(nèi)可放置6個月?! 《鳳S版的耐磨性和耐蝕性隨氧化膜厚度的增加而提高。但應(yīng)提醒注意的是,氧化膜的脆性會隨厚度的增加而上升。由于印刷時印版是處在彎曲變形的狀態(tài)下工作,所以過厚的氧化膜會使印版表面出現(xiàn)損壞,使印版耐印力下降。一般情況下,氧化膜的厚度應(yīng)控制在3~4μm?! ?.影響氧化膜性能的因素 ?、傺趸簻囟鹊挠绊憽 ⊙趸簽榱蛩崛芤?,其反應(yīng)為:  水的電離反應(yīng):  H2OH++OH-  陽極:2OH-→H2+[O]+2e 2Al+3[O]→Al2O3 Al+3H+→Al3++3/2H2  陰極:                        2H++2e→H2  生成的三氧化二鋁薄膜與硫酸發(fā)生反應(yīng)而被溶解,反應(yīng)式為:  Al2O3+3H2SO4→Al2(SO4)3+3H2O  上述反應(yīng)表明,鋁板的陽極氧化過程,同時包含著氧化膜的生長和溶解過程,只有當氧化膜的生長速度大于深解速度,膜層的厚度才可以順利地增長  生成氧化膜的反應(yīng)為放熱反應(yīng),根據(jù)化學平衡原理,升高氧化液的溫度,將會阻止氧化膜的生成而加速氧化膜的溶解。鋁板氧化膜的厚度將隨氧化液溫度的升高而減少,氧化膜的耐磨性和硬度也隨之降低,一般宜將溫度控制在7~19℃較為合適?! 、倭蛩釢舛鹊挠绊憽 纳厦媪谐龅幕瘜W反應(yīng)式可以看到,硫酸濃度增加,氧化膜的溶解速度將會加快,使用低濃度的硫酸氧化液,有利于氧化膜的生長,在衡氧化液,有利于氧化膜堅硬耐磨。一般認為16~17%的濃度比較合適,在這個范圍內(nèi)形成的氧化膜有足夠的硬度和耐磨性,保證了印版耐印力?! 、陔娏髅芏群碗妷旱挠绊憽 ⊙趸さ纳L速度與電流密度的關(guān)系如圖91)所示??梢姡娏髅芏仍龃?,氧化膜的生長速度加快、膜層加厚,耐磨性、耐蝕性等也隨之提高。通常使用的密度為0.5~1A/dm2?! ‰妷簩ρ趸ば阅艿挠绊懞艽?,電壓過低,氧化過程不能順利進行;電壓較高時,形成的氧化膜孔徑較大。電壓過高,甚至可能擊穿鋁板。一般將槽電壓定在10V左右?! ∷?、親水處理的影響 1.封孔作用  親水處理又稱封孔,封孔液為硅酸鹽溶液?! 》饪椎淖饔糜腥矫妫阂皇欠忾]一些極微小的孔,減少吸附能力,而對于較大的孔也可以使孔壁增厚,從而使氧化膜的耐磨性、耐腐蝕性提高;二是提高版面氧化膜的親水性惰性狀態(tài)從而延長PS版的保存時間,并能增強印版的耐印力,但封孔若操作不當,后果會適得其反?! ?.封孔操作的影響 ?、倥渲品饪滓阂欢ㄒ谜麴s水,不能用含鈣離子的水,因鈣離子與硅酸根會發(fā)生如下反應(yīng):Ca2+SiO32-→CaSiO3↓沉淀的CaSiO3易被氧化膜的微孔吸收,從而版面的親水性能被破壞?! 、诜饪讜r間不宜短,封孔時間過短,膠體在版面上沉積量少,微孔封閉得少,使版面吸附能力太大,致使殘存在微孔中的感光物質(zhì)曬版時難以除去,從而破壞了空白部分的親水性,一般的封孔時間宜為1~3min?! 、鄯饪踪|(zhì)量合格的鋁板,應(yīng)及時涂布感光層,否則版面的氧化膜老化,會影響PS版的制版質(zhì)量。(待續(xù))

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